技术编号:17404202
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及晶圆清洗技术领域,尤其涉及一种晶圆清洗装置。背景技术晶圆是摄像模组中的一个关键部件,晶圆的洁净度关系到能否高质量地接收到光学系统的成像,所以生产过程中对晶圆的清洗工作尤为重要。传统的晶圆清洗方式是采用喷头垂直喷出清洗液体,晶圆所在的钢板水平放置于转盘上,利用喷头喷出的清洗液体的冲击力和转盘带来的离心力将脏污除去。在中国专利200310122887.3中公开了一种晶圆喷洗装置,包括有承载一晶圆的晶圆承载座以及沿该承载座的一径向外侧设置的清洗液传送构件,该清洗液传送构件一端呈U型向下弯...
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