技术编号：17438790
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及全息元件制备技术领域，尤其是一种计算全息记录光栅制备方法。背景技术目前，在激光约束核聚变系统中，对一维衍射光栅线条的等距和平直性精度要求极高。全息曝光拼接可以实现大面积的光栅制作，由此获得的光栅稳定性很好，但是拼接过程难度较大，在拼接过程中需要解决条纹的对准问题，即第二块光栅的条纹与第一块光栅的条纹之间必须平行，并且它们之间的间隔必须是光栅周期的整数倍，显影后，原先的正弦槽形即被填充成锯齿形。因而，如何通过拼接方法来实现大面积全息光栅的制备，是目前人们研究的一个重点。发明内容本发明的目...
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