用于测量由光刻工艺形成在衬底上的结构的量测设备、光刻系统、以及测量由光刻工艺形成在衬底上结构的方法与流程技术资料下载

技术编号:17438817

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本申请要求享有2016年8月23日提交的欧洲专利申请16185319.7的优先权,并且该申请在此通过全文引用的方式并入本文。技术领域本发明涉及一种用于测量由光刻工艺形成在衬底上的结构的量测设备、光刻系统以及测量由光刻工艺形成在衬底上结构的方法。背景技术光刻设备是将所希望图案施加至衬底上、通常至衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在该情形中,备选地称作掩模或刻线板的图案化装置可以用于产生将要形成在IC的单个层上的电路图案。该图案可以转移至衬底(例如硅晶片)上的目标...
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