技术编号：17471185
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体集成电路制造领域，特别是涉及一种利用SCD(散射测量临界尺寸)监控在线产品焦距变化的方法。背景技术目前，经常使用的晶圆矩阵包含以下三种：1.焦点矩阵(Focus matrix，FM)；2.能量矩阵(Energy matrix，EM)；3.焦点/能量矩阵(Focus/Energy matrix，FEM)。上述三种晶圆矩阵，都缺乏有效监控线上产品焦距的方式,且传统式的CDSEM(扫描式电子显微镜测量临界尺寸)量测变异度太大。由于各类组件对制程微缩的持续需求，微影技术在现今的半导体产业...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。