技术编号：17471203
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及计算光刻技术领域，尤其涉及一种计算光刻中掩模版的处理方法及装置。背景技术光刻工艺是集成电路制造中的一个重要工艺步骤，通过利用光化学反应原理，将预先设计在掩模版上的图形转印到晶圆表面上，其主要流程可以通过光刻模型体现，光刻模型包括：光源、聚光透镜、掩模版、投影光瞳、投影透镜以及晶圆。结合光刻模型，光刻工艺过程包括：从每一光源发出的光线经聚光透镜后成为平行光，该平行光照射到掩模版上，使掩模版上的图案，经过投影光瞳以及投影透镜，在晶圆表面上成像，因此晶圆表面又称为成像平面。其中，光源由一系列...
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