技术编号:17473542
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种利用Au纳米颗粒增强Ga2O3薄膜光催化降解有机污染物的方法,属于半导体材料光催化降解有机污染物领域。背景技术近年来,半导体光催化技术作为一种低成本、环保和可持续的处理技术,与工业废水零排放计划相结合,显示出巨大的潜力。这种先进的氧化技术已被广泛证明能够去除水中的持久性有机化合物和微生物。目前半导体光催化降解有机污染物的研究绝大部分采用的为微纳米级颗粒材料,此种材料具有较大的比表面积、较高的污染物降解效率,但是阻碍其商业化的主要技术障碍是水处理后催化剂颗粒的回收。为了提高Ga2O3...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。