技术编号：17474926
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本申请要求于2017年10月12日提交韩国工业产权局、申请号为10-2017-0132279的韩国专利申请的优先权和权益，其全部内容通过引用结合在本申请中。技术领域在此描述的发明构思的实施例涉及一种基板处理设备及一种检查处理液喷嘴的方法。背景技术为了制造半导体装置或液晶显示器，在基板上执行如光刻、蚀刻、灰化、离子注入、薄膜沉积、以及清洁等不同的工艺。在他们当中，蚀刻工艺是移除在基板上形成的薄膜的多余区域的工艺，并且对于薄膜其需要高选择比以及高蚀刻率。进一步地，在上述工艺期间，可以伴随加热基板的工...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。