技术编号:17475327
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示面板及其制作方法。【背景技术】低温多晶硅(LTPS)作为显示领域的新一代技术,常用于制作有源层,使得面板具有更快的响应速度和更高的分辨率。通常需要在薄膜晶体管的源漏极层和有源层之间设置过孔,过孔主要是通过蚀刻有源层上面覆盖的层间绝缘层和第一栅极绝缘层形成的。有源层和源漏极层之间的膜层从上到下分别是SiOx/SiNx/SiNx/SiOx,现有的过孔仅通过一步蚀刻工艺得到过孔,使得同一蚀刻过程中包含SiOx和SiNx两种材质的膜层。但是,不同材质的膜层在同一...
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