技术编号:17479052
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻照明均匀性补偿技术领域,尤其涉及一种光强分布的建模方法、装置、电子设备及存储介质。背景技术把越来越多的晶体管电路元件集成在硅片上,一直是国际微电子工业界不懈追求的目标。因此,减小集成电路最小线宽尺寸是提高存储能力的重要手段。在加工制造集成电路的设备很多,光刻机是目前技术最成熟的设备。光刻机的核心部件是投影曝光光学系统,该系统最重要的组成部分是照明系统和投影物镜系统。为掩膜面提供均匀照明是光刻照明系统的主要功能,良好的照明均匀性能降低光刻工艺因子,提高整个光刻系统的分辨率;反之,照明...
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