光学近场度量的制作方法技术资料下载

技术编号:17485844

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本申请案主张2016年9月28日申请的第62/400,627号美国临时专利申请案的权利,所述临时专利申请案的全文以引用的方式并入本文中。技术领域本发明涉及光学度量的领域,且更特定来说,本发明涉及具有用于增强光学度量的高灵敏度及准确度的晶片特征扫描。背景技术光学度量中的准确度及灵敏度要求随着光刻生产技术的进步及集成电路(IC)装置特征大小的减小而增加。当前扫描技术太缓慢、太昂贵及/或不够准确来将所需晶片表面构形输入提供到光学度量系统。发明内容以下是提供对本发明的初始理解的简化概述。所述概述未必识别...
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