技术编号：17546887
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于光刻胶制备技术领域，尤其涉及一种溶剂生产设备、溶剂制备及取用方法。背景技术在半导体工业中，光刻胶是芯片及器件制造的关键材料。一般来说，光刻胶包含主体树脂、光敏剂、添加剂和溶剂等。其中主体树脂、光敏剂和添加剂在光刻胶中含量较小，光刻胶的主要成分还是溶剂。现有技术当中，随着国家电子材料产业的发展，国产高纯电子级试剂产品不断面世。从指标上看，国内电子级试剂的金属杂质和水分含量基本能达到先进光刻胶的使用要求。但在颗粒度控制方面，还存在薄弱环节，且如何长时间保持高纯溶剂的纯度以及如何避免溶剂在使...
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