技术编号:17638275
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于石墨烯生产铜箔刻蚀领域,具体涉及一种利用无表面活性剂溶液去除铜箔表面杂质石墨烯的方法。背景技术随着石墨烯材料的发现,因近乎完美的性能,在光学、电学、力学、材料学、微纳加工、能源、生物医药和药物传递等各个领域的应用引起人们的广泛关注,石墨烯薄膜的制备与应用得到了大量研究。石墨烯薄膜是一种应用广泛的柔性透明导电膜,CVD气相沉积法制备石墨烯薄膜是研究较为成熟的一种方法。通过CVD气相沉积法制备的石墨烯薄膜需要对金属衬底进行刻蚀,现有技术中有两种金属衬底的刻蚀方法。一种是由专利申请号2016...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。