技术编号：17692915
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示技术领域，特别是指一种掩膜板、光栅及制作方法。背景技术随着现代加工技术的蓬勃发展，光栅的制作工艺正向着高精度，低成本，大产量的方向发展，目前主要采用如下方法加工高精度光栅：传统光刻、电子束直写、纳米压印等。其中最普遍使用的制作方法是传统光刻，原理是通过掩膜板对光刻胶进行曝光，可得到微米级分辨率的曝光图案，由于光在通过掩膜板时具有衍射效应，传统光刻图案的分辨率为曝光波长量级。要获得更高分辨率的光栅就必须采用更短的波长，但是短波长光源的技术难度大、成本高，因此限制了传统光刻图样分辨率的...
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