技术编号：17726980
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种在LSI及超LSI等半导体装置及液晶面板的制造中防止在光刻工序中所使用的光掩模或光罩上附着异物的薄膜用支承框和薄膜及其制造方法，更具体而言，涉及一种将离子洗脱量降低至极限的薄膜用支承框和薄膜及其制造方法。背景技术LSI及超LSI等半导体装置或液晶面板通过对半导体晶片或液晶用原版照射光而形成图案(利用光刻而形成图案)。在此，在使用附着有尘土的曝光原版的情况下，该尘土会吸收和/或反转光，因此，不能良好地转印图案(例如，图案的变形或边缘的不清楚)。其结果，存在损害半导体装置或液晶面板的品...
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