技术编号：17736851
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及设备检测领域，特别是涉及电荷量检测装置及方法。背景技术随着LTPS(Low Temperature Poly Silicon，低温多晶硅)技术的发展，离子注入工艺被引入显示面板的制备工艺中并扮演越来越重要的角色。离子注入过程中检测基板的掺杂情况可防止基板电势积累过高，影响掺杂结果，损坏器件，防止对后续工艺产生影响。故研究离子注入过程中基板表面电荷的分布情况能够有效的提升离子注入的效果，使器件达到最佳电性性能。通常，在离子注入工艺中可采用法拉第杯检测离子束的束流大小。而法拉第杯只能监测离...
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