技术编号:17736875
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及离子源技术领域,尤其涉及一种多通道离子源产生装置。背景技术离子束辅助沉积镀膜(Ion Beam Assisted Deposition)简称IAD法,是20世纪80年代中期发展起来的一种镀膜技术,它是在热蒸发镀膜的同时用离子束对基片施以某种工作气体的离子轰击,已经被普遍应用在现代高质量、高难度、高效率的镀膜生产中。离子源作为离子束辅助沉积的装置,在改变沉积薄膜成份结构的过程中起着决定性作用。其工作原理是阴极电热丝通电后发热发光,产生热电子,热电子在阳极正电压的拉动下向阳极运动,在运动过...
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