技术编号:17736878
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种利用气体团簇溅射靶材引出离子束流的方法及离子源,属于离子源技术领域。背景技术近年来,离子束在工业方面的应用愈加广泛,主要有离子束刻蚀、半导体材料掺杂、离子束沉积、材料表面改性等。除工业领域外,离子束还广泛应用于基础应用研究、同位素分离、质谱学、聚变能、放射疗法等各领域学科,此外,离子束也可作为探测束用于二次离子质谱、加速器质谱、卢瑟福背散射、离子激发X射线荧光谱、核反应分析以及弹性反冲探测分析等方面。由此可见,离子束在现代科技中发挥着十分重要的作用。因此,离子源作为产生和输出离子束...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。