技术编号：17738149
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本公开涉及一种掩模及其制造方法，且特别有关于一种极紫外光掩模及其制造方法。背景技术半导体集成电路工业经历了快速的成长。在集成电路材料与设计中技术的进展，创造了集成电路的世代，其中每一世代皆具有比前一世代更小且更复杂的电路。然而，这些发展增加了工艺及制造集成电路的复杂度，并且，为了实现这些发展，在集成电路的工艺及制造中也需要类似的发展。在集成电路的演进过程中，当几何尺寸(即可使用生产工艺创建的最小组件)降低时，功能密度(即单位芯片面积的互连装置的数量)通常会增加。在一范例中，微影(lithogra...
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