技术编号：17738152
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种适合在掩模基底、相移掩模、掩模基底的制造方法及相移掩模的制造方法中使用的技术。背景技术随着平板显示器(flat panel display，FPD)的高细致化，形成微细图案的需求正在提高。因此，不仅使用一直以来采用的遮光膜的掩模，而且使用边缘增强型的相移掩模(PSM掩模)(参照专利文献1)。这种相移掩模要求降低反射率。专利文献1：再公表WO2004/070472号公报这种相移掩模优选在曝光时降低反射率，因此需要将折射率低的膜形成于表面。在相移掩模中为了获得折射率低的膜，优选采用由经...
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