技术编号：17738158
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。该非临时申请根据35 U.S.C.§119(a)要求2017年11月13日在日本提交的专利申请No.2017-218156的优先权，其全部内容通过引用并入本文。技术领域本发明涉及一种被加工成适合于使用曝光光进行图案转印的光掩模的光掩模坯料，以及一种由该光掩模坯料制备光掩模的方法。背景技术为了诸如微电子器件的更高运转速度和节省功耗的目标，对于大规模集成电路的更高集成度的挑战仍在继续。为了满足对缩小电路图案的日益增长的需求，先进的半导体微处理技术变得重要。例如，用于缩小构成电路的布线图案的技术和用于...
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