技术编号：17748491
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种X射线吸收光栅，尤其涉及一种X射线吸收光栅制作方法。背景技术吸收光栅是X射线光栅微分相衬成像技术中必不可少的关键器件，在该技术中，其可分为源光栅与分析光栅。2006年F.Pfeiffer等人将Lau效应引入X射线相衬成像技术中，使用源光栅将普通X射线管发出的非相干X射线调制为部分相干(在一个光栅周期内)，在满足相衬成像对相干性要求的同时，充分利用了X射线通量。另一方面，为分辨物体引起的相位光栅自成像条纹的剪切量，通常在自成像位置放置分析光栅来对相位信息取样。一般地，分析光栅的周期小...
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