一种CMP抛光设备用抛光垫的制作方法技术资料下载

技术编号:17750829

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本实用新型涉及抛光垫技术领域,具体为一种CMP抛光设备用抛光垫。背景技术抛光垫又称抛光皮,抛光布,抛光片,化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料,按是否含有磨料可以分为有磨料抛光垫和无磨料抛光垫;按材质的不同可以分为聚氨酯抛光垫、无纺布抛光垫和复合型抛光垫;按表面结构的不同大致可分为平面型、网格型和螺旋线型,抛光垫用于安装上CMP抛光设备上。CMP即化学机械抛光,CMP技术所采用的设备及消耗品包括:抛光机、抛光浆料、抛光垫、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等。现有的...
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