技术编号:17791942
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及材料技术领域,具体而言,涉及一种高分子保护砷烯纳米片的方法。背景技术二维单质烯材料,例如石墨烯、硅烯、锗烯、黑磷、砷烯等,由于其优异的电学和光学等性质,近年来受到广泛关注。但是,裸露的单质烯材料面临着环境中水蒸汽和氧气的干扰。大气环境中的水蒸气和氧气会与单质烯材料反应和相互作用,从而极大地降低和破坏单质烯材料的晶体结构和质量。而且,基于单质烯的晶体管在大气环境中也表现出性能的衰减。而新兴的砷烯,在大气环境中更是表现出异常明显和迅速的晶体退化。因此,发明一种保护砷烯材料不受大气环境影响的...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。