技术编号：17838787
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及制备电池负极材料的设备领域，尤其涉及一种反应炉。【背景技术】纳米硅制备方法有物理方法和化学方法两类。物理方法主要有磁控溅射与等离子体法、机械法等；化学方法则包括化学还原法、化学刻蚀硅片法、化学气相沉积法等。物理法可制备多组元的纳米颗粒，但使用靶材昂贵，工业设备投入巨大；一般来说，化学方法具有使用设备简易、反应条件比较缓和及使用原料广等特点，但现有化学还原法对反应容器(或者反应炉)有高温高压需求，存在安全隐患，实际操作性差，能耗也大，不利于批量化生产；化学刻蚀硅片法技术复杂、配套设备...
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