技术编号:17851158
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本公开涉及一种成像器件、成像装置和电子设备,更具体地,涉及一种能够以低成本对电荷累积单元进行遮光、同时保持从光电二极管到电荷累积单元的电荷传输路径的成像器件、成像装置和电子设备。背景技术通常,在成像装置中采用的成像器件被配置为通过形成遮光结构、同时保持从光电二极管到电荷累积单元的电荷传输路径来防止像素之间混色(参见专利文献1)。引用列表专利文献专利文献1:日本专利申请公开第2014-096490号发明内容发明要解决的问题然而,在上述专利文献1中公开的技术为了形成电荷累积单元的遮光结构、同时保持从...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
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