一种冷泵再生控制方法、装置及半导体加工设备与流程技术资料下载

技术编号:17868005

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本发明属于半导体制造领域,具体涉及一种冷泵再生控制方法、装置及半导体加工装置。背景技术物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,以下简称PVD)技术是半导体工业中最广为使用的一种薄膜加工技术。在使用PVD设备加工薄膜时,对PVD工艺腔室和传输腔室的真空度均有很高的要求。为了在工艺腔室和传输腔室内获得高真空,首先采用干泵进行粗抽,然后用冷泵进一步提升真空度。图1为冷泵的结构示意图。如图1所示,冷泵包括泵体10,在泵体10内设有一级冷板11和二级冷板12,在二级冷板12上设有...
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