技术编号:17890291
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种半导体结构的布局及其制作工艺,特别是涉及一种呈矩阵排列的半导体结构的布局、半导体装置以及其制作工艺。背景技术在半导体制作工艺中,一些微结构的制造,需要在半导体基材/膜层、介电材料层或金属材料层等适当的基材或材料层中,利用光刻及蚀刻等制作工艺,形成具有精确尺寸的微小图案。为达到此目的,在传统的半导体技术中,是在目标材料层之上形成掩模层(mask layer),以便先在该掩模层中形成/定义这些微小图案,随后将该等图案转移至目标膜层。一般而言,掩模层例如是通过光刻制作工艺形成的图案化光致...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。