技术编号：17899725
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于光学材料领域，涉及一种二氧化硅光学微盘腔的方法，尤其涉及一种干法蚀刻制备二氧化硅光学微盘腔的方法。背景技术根据形状的不同，二氧化硅回音壁模式的光学微腔可分成三种：微盘腔、微环芯微腔、微球腔。由于二氧化硅在通信波段极低的损耗，使得二氧化硅回音壁模式微腔具有品质因子高、模式体积小的优点。这些优点使得二氧化硅回音壁模式微腔成为基础科学研究的极佳的平台，另外二氧化硅回音壁模式微腔在传感探测、光通信领域也有很好的应用前景。2003年，vahala组发明了微环芯微腔的制备方法，将品质因子提升到10...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。