技术编号：17925918
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及薄膜制造技术领域，尤其涉及一种薄膜沉积工艺控制系统及方法。背景技术现有脉冲激光沉积系统(Pulsed Laser Deposition，PLD)在制造薄膜时，目前的监控参数一般只有激光能量、腔体气压，然而由于制备薄膜过程中激光窗口容易被所镀材料污染，从而可能大大降低实际打在靶材上的激光能量。另外，由于激光光斑大小只有2-4mm2左右，靶材在使用以后，表面形貌可能发生变化从而改变镀膜速率或者镀膜材料分布。这些不易监控的细节带来了在脉冲激光沉积制备材料时的一个很显著的问题就是材料制备的可控...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。