技术编号:17926047
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明关于一种基板承载装置,尤其是关于等离子半导体制造设备中一种具有静电力抑制的基板承载装置。背景技术在有等离子体参与的薄膜沉积工艺中,基板被摆放在处理腔体的基板支撑座(即基板承载装置)上,使基板维持在分布有电场的反应区或处理区中。处理气体或反应气体在电场的作用下转换为一等离子体,用于基板上的薄膜沉积。所述电场的分布范围涵盖处理腔体中的各部件,使各部件的表面累积相当的电荷量。例如,基板上会积累电荷,从而与其下方的基座产生相互吸引的静电力。虽然在某些应用中,承载装置被设计成利用静电吸附力稳固被处理...
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