技术编号：18007063
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明实施例涉及一种光掩膜承载盒以及光掩膜装置的承载及清洁方法。背景技术光掩膜(photomasks or reticles)已经普遍被使用于半导体制造的光刻工艺中。典型的光掩膜是使用非常平的石英或玻璃板，并在板体的其中一侧面沉积一层铬所制作而成。在光刻工艺中，会将光掩膜(例如二位明暗度光掩膜(Binary Intensity Mask，BIM)或是相位偏移光掩膜(Phase Shift Mask，PSM)上的图案(pattern)转移成图像到晶片上。然而，光掩膜的洁净程度往往会是一项问题，对于...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。