技术编号：18090067
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体存储器技术领域，具体而言，涉及一种晶圆的清洗设备。背景技术目前，卫星状缺陷普遍存在于光刻显影后，其发生的原因是未曝光区的光刻胶接触显影液后在去离子水清洗时因为显影液为pH值13.2，而去离子水pH值7，如图1所示，造成了酸咸震荡，使光刻胶产生析出物附着于表面，如图2所示，造成以打开的洞被回填，影响晶圆的良品率。需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本实用新型的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。发明内容本实用新型实施例的目的...
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