技术编号:18187526
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种基于脉冲调制射频的大气压低功耗室温等离子体射流装置。背景技术大气压等离子体射流不需要复杂的真空设备,被处理物的尺寸不受真空设备的限制,能够在大气压条件下产生和应用非平衡放电等离子体。大气压等离子体射流产生的非平衡放电等离子体富集大量的离子、电子、激发态原子和分子以及自由基等反应性活性粒子,这些粒子非常容易与所接触的材料表面发生反应,因此,大气压等离子体射流在材料表面处理方面具有许多重要的应用。与传统的低气压放电等离子体方法相比,大气压等离子体射流装置具有操作便捷和处理速度快等优...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。