技术编号:18236443
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及高抗拉锂电铜箔制备技术领域,具体来说,涉及一种提高铜箔表面均匀性的添加剂配方。背景技术电解铜箔是锂离子电池的基础材料,随着新能源汽车行业的快速发展,新能源汽车对动力源的要求越来越高,锂离子二次电池凭借其优异的性能,逐渐成为新能源汽车的理想动力源。目前高端锂离子电池要求铜箔具有高抗拉、高延伸率、超薄,并且表面均匀等特点。随着锂离子电池性能要求的提高,对锂电铜箔的工艺要求也越来越高。其中,电解液的添加剂是锂电铜箔工艺中的核心,添加剂的好坏很大程度上决定了铜箔的性能。锂电铜箔添加剂配方包括三...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。