技术编号：18270751
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及接近式曝光装置以及接近式曝光方法。背景技术以往，在专利文献1中公开了一种曝光装置，该曝光装置具有多个反射镜，各反射镜分别包括能够校正反射镜的曲率的镜弯曲机构，掩模侧的一个反射镜根据工件的应变量驱动镜弯曲机构来校正工件的变形，另一个反射镜在校正了一个反射镜的曲率的状态下，驱动镜弯曲机构校正反射镜的曲率来提高曝光光的照度分布。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2015-146417号公报发明内容发明欲解决的技术问题然而，如专利文献1中记载，当进行镜弯曲时，照射到工件的曝光光的主光线的...
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