技术编号:1828320
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及使用TiCl4蒸气经常压化学蒸汽淀积(atmospheric pressurechemical vapor deposition)(APCVD)法将氟改性的二氧化钛膜(TiO2)沉积到热玻璃上。本发明也适用于沉积其它来自其金属卤化物如SnCl4、GeCl4和VCl4的金属氧化物膜。为改进玻璃的一种或多种性能,对玻璃来说有用的金属氧化物涂层是已知的。工业玻璃涂布机希望金属氧化物涂层不含会降低玻璃光学性能的杂质或表面不规则形状。为了节约,涂层必须以与...
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