技术编号:1831853
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于制备非铅系的铁电薄膜的制备方法。背景技术 在过去的几十年当中,各种各样的薄膜制备方法被采用来制备铁电薄膜,其中包括不同的物理气相沉积技术等离子体溅射沉积(PSD)和离子束溅射沉积(IBSD)、脉冲激光闪蒸沉积(PLAD)、电子束或电炉中分子束蒸发外延(MBE)、金属有机气相沉积法(MOCVD)、化学溶解法(MOD例如溶胶—凝胶过程和金属有机沉积法)。虽然,薄膜的各种制备技术的发展和应用方面取得了很大的进步,然而,对大多数方法来说,还需要进一步的工...
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