技术编号:1838263
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及 一 种。 背景技术一般玻璃衬底的耐热度往往只能到600°C ,如果直接在高温 下制作多晶硅薄膜,将会造成玻璃扭曲变形,因此,产业界和 学术界都致力于发展制作低温多晶硅薄膜(Low Temperature Polysilicon Thin Film)。准分子激光退火(Excimer Laser Annealing, ELA)方法是目 前 一 种广泛用于制作低温多晶硅薄膜的方法,其是利用高能量 的准分子激光照射非晶硅薄膜,使非晶硅薄膜吸收激光能量,...
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