技术编号:18399772
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种对处理基板的处理单元供给处理液的处理液供给装置、具备该处理液供给装置的基板处理装置、以及使用该处理液供给装置及该基板处理装置的处理液供给方法。成为处理对象的基板,例如包含半导体晶片、液晶显示设备用基板、有机EL(Electroluminescence;场致发光)显示设备等的FPD(Flat Panel Display;平板显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳电池用基板等基板。背景技术在逐片地处理基板的单张式基板处理装置的基板处理中,例如...
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