技术编号：18418505
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及光刻机领域，特别涉及一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置。背景技术光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等，光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。现有的技术存在以下问题：1、现有的无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置均无清除灰尘装置，在进行光刻时，光刻部位的细微灰尘及杂质，导致光刻的深度及范围发生变化，严重影响光刻的精度及质量。2、现有的无掩膜光刻机的激...
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