技术编号:1846242
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。用于基材热处理的装置和处理室本发明涉及根据权利要求I前序部分的用于基材热处理的处理室,就像例如在同类型的DE69812251T2中所述的那种处理室。该处理室能作为加热处理室(加热室)或冷却室来构成。本发明还涉及包括用于基材热处理的加热处理室和冷却室的装置以及用于基材热处理的方法。在基材表面处理中,例如当在平面显示器和太阳能电池的生产过程中施加透明的传导性氧化物层(TCO)时或者当利用硒化铜铟镓(CIGS)薄膜技术涂覆基材时,通常需要多个处理步骤,在这些处理...
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