技术编号:18463550
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于高分子涂层领域,具体涉及一种光学材料表面处理方法所制得的制品。背景技术起雾会降低光学材料(器件)的透明度,不仅会给器件和工具的使用带来不便,还会造成潜在的危险。高新技术的发展,对仪器设备的使用要求越来越高。因此,高性能抗雾涂层的需求也越来越大。但是普通的抗雾涂层自身不稳定、无法长时间使用和无法抗污的问题也逐渐凸显出来。聚乙烯醇、透明质酸、聚乙烯吡咯烷酮、聚甲基丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯等亲水性聚合物多用于防雾涂层的制备。这些亲水性聚合物的分子链上有大量的含氧基团,可以和其他聚合物形成...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。