技术编号:18484107
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体制程废气以电浆炬(Plasma Torch)进行烧结反应后的生成物的捕捉技术,特别是有关于一种电浆炬激发装置的水分子供应装置。背景技术周知,半导体制程所生成的废气包含有SiH4、H2SiCl2(DCS)、WF6、BF3、NF3、SF6、CF4、C2F6C3F8等,其中NF3、SF6、CF4、C2F6及C3F8等归属有害的氟化物(Per Fluorinated Compounds,PFC),倘若排放至大气中,会造成环境污染,甚至于温室效应,对地球暖化造成严重的影响,因此必须将所...
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