技术编号：18524384
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明关于一种多段喷淋组件，等离子体尤其是以每一喷嘴提供至少两种物质的混合气体的一种多段喷淋组件。背景技术在高整合度的半导体装置制造中，对于各种处理的精确性需求越来越高，像是薄膜沉积处理中的厚度和均匀性控制等。在化学气相沉积处理(CVD)中，半导体制造设备提供喷淋组件来供应反应气体至一基板的表面，以在基板表面形成薄膜。进阶的喷淋组件具备混合气体的供应，意即至少两种气体可在喷淋组件中进行混合，接着经由多个喷嘴释放至基板的处理区域。所述混合可包含多种气体。例如，反应气体含有形成沉积薄膜的物质，以及不...
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