技术编号:18544849
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及辐照加工技术领域,尤其涉及一种电子束聚焦装置。背景技术用于辐射加工的辐射源有两类,一类是放射性同位素如钴源,另一类是带电粒子加速器如电子加速器。电子加速器的优点是能量可控;电子束基本作用于被照射产品,利用效率高;没有放射性废源的处理问题;停机时不消耗电力;整个生产过程中除产生少量臭氧外,几乎不污染环境。因此电子加速器在辐射加工中有更多用户采用的趋势。对于电子加速器中加速的电子束,在传输过程中其横向和纵向包络越大,束流损失越严重,束流的传输性能越差,因此电子加速器的束流聚焦性能极大影响其...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。