技术编号:18576337
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及磁控溅射镀膜技术领域,特别是涉及一种阴极支座装置。背景技术磁控溅射技术广泛应用于五金装饰、光学玻璃镀膜、薄膜太阳能、纳米功能薄膜、硬质涂层等领域,是物理气相沉积(PVD)技术中应用最为广泛一种通过辉光放电离化的荷能粒子在电场作用下轰击靶材表面,靶材原子经过级联碰撞能量传递后,获得能量,溢出靶材表面沉积在基片表面上形成薄膜或涂层。溅射过程中,等离子体内的电子的主要作用是在磁场的作用下,进行螺旋运动,并在运动过程中对惰性气体进行活化及离化,离华后的惰性气体粒子进行溅射;然而磁控溅射过程...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。