技术编号:1869962
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于光电材料,具体来说,本发明是一种铟锡氧化物(ITO)靶材的制备新方法。背景技术铟锡氧化物(Indium Tin Oxide,以下简称ITO)祀材是生产各类平板显示器的关键材料。工业生产中均采用ITO靶材通过磁控溅射在玻璃上或其他基底上镀上厚度IOOnm左右的透明导电薄膜,薄膜经过刻蚀后作为透明电极。目前,ITO透明导电薄膜凭借优异的光学和电学性能在光电子领域得到了广泛的应用,特别是在高速发展的平板显示器行业。可以说,ITO靶材的性能和质量几乎决定...
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