一种激光透明陶瓷及其制备方法技术资料下载

技术编号:1880421

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本发明公开了一种激光透明陶瓷的制备方法,将原料进行称量制得粉体;将所述粉体进行干压成型,得到半成品;将所述半成品进行低温热处理,其中,所述低温热处理的温度为500~1100℃;将经过低温热处理的所述半成品进行热压振动烧结,其中,所述热压振动的烧结温度为1500~2000℃,压力为4~55Mpa;将经过热压振动烧结的所述半成品进行退火处理,退火温度为900~1500℃;将经过退火处理的所述半成品打磨抛光,制得ReYAG激光透明陶瓷。相应的,本发明还公开了一种...
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