技术编号:18813292
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种物质表面超低反射薄膜厚度的理论值确定方法,属于清洁能源材料和光学材料制备技术及应用领域。背景技术随着社会和经济的发展,太阳能的高效利用,降低金属、玻璃和陶瓷等表面的光污染,减少屏幕的光反射等问题成为全世界的重要研究课题。反光物质表面可以通过制备超低反射膜来降低光的反射,增加光的透过率。目前,超低反射膜的制备方法有很多,主要有磁控溅射法、溶胶-凝胶浸涂法、真空蒸镀法和腐蚀法等。在现有的制备方法中由于腐蚀法具有反应条件可控,设备要求简单,易于实现批量生产,有利于环境保护等优点,现在越来...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。