技术编号：1897936
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种真空磁控溅射金属膜层厚度控制系统，包括一真空室，内具有输送器并设输送器速度控制器，将玻璃放置于输送器上，于玻璃上端的金属靶材可于电流控制器作用下将金属镀于玻璃表面上；一玻璃，置放于输送器上；一输送器，上放置玻璃，可由输送速度控制器控制玻璃的输送速度；一输送速度控制器，可控制输送器输送玻璃的速度；一金属靶材，在电流控制器输出的电流作用下其金属可借真空磁控溅射原理镀于玻璃表面；一电流控制器，可依设定输出特定电流。本实用新型金属膜层的厚度可由电流控制器调整电...
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